MP500 选化沉金系列干膜光阻剂特别针对高解析度线路，具有优秀的耐碱性蚀刻性能。MP515和MP520可几乎应用于所有电镀工艺，包括镀金。
特色及优点
极好的耐碱性蚀刻性能
高解析度
较好地应用于图形电镀
较好地应用于直接电镀
用于沉金电镀工艺过程
盖孔能力优异
镀金性能可达100μin
项目
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单位
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MP515
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MP520
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备注
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厚度
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μm
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40
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50
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感度*1
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mj/cm2
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70
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90
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最短显影时间
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sec.
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45
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55
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附着力*1*2(L/S=X/250)
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μm
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40
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50
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解析度*1*2（L/S=X/X）
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μm
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30
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40
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盖孔孔径
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μm
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6.0
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7.0
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*1:MP515(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺，推荐硬化格数的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光机制作（UVE-HSP5K-11）
*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短显影时间x2
*3:分辨率、解析度以及显影后图像。
